核心机型与低耗要点(简表)
机型 核心配置 适用介质 低耗设计 典型场景
氟系低消耗型清洗装置(紧凑型) 自动升降 / 摇摆、chiller、密封冷凝、真空干燥、循环过滤 HFE/PFC 密闭 + 冷凝回收、定点冷却、小占地、PLC 自动补液 / 报警 中批量、空间受限、快干无水印
氟系 1 槽自动(Phenix Hyper/+) 26/38 kHz 扫频超声、chiller、蒸汽干燥、冷凝回收、过滤 HFE/PFC 单槽集成、控温抑挥发、冷凝回收、水分分离 精密件、光学件、轻油 / 颗粒
氟系 2 槽自动 双槽分工、chiller、蒸汽清洗 / 干燥、冷凝回收、过滤 HFE/PFC 分级清洗、控温冷凝、溢流过滤、水分分离 高洁净度、复杂型腔、轻油 / 颗粒
氟系水切干燥机 水切、蒸汽干燥、冷凝回收、水分分离 HFE/PFC 控温蒸汽、冷凝回收、水分分离、省空间 纯水漂洗后脱水、无水印、载具 / 光学件
低耗原理与关键措施
密封与冷凝回收:chiller 控温抑挥发,冷凝回收减少排放与损耗;密闭腔体 + 水封 / 油封,降低 VOC 与溶剂逃逸。
单槽集成与分级清洗:1 槽完成清洗→超声→蒸汽干燥,减少搬送与挥发;2 槽分级清洗,提升洁净度同时降低整体消耗。
超声与过滤优化:扫频超声、可调功率 / 频率,适配热敏 / 易碎件;循环过滤 + 溢流控制亚微米颗粒,延长溶剂寿命。
自动化与补液:PLC 程序控制,自动升降 / 摇摆、补液、报警,稳定节拍与消耗,避免人为浪费。
选型与工艺建议
工件与污渍:轻油 / 颗粒→26/38 kHz 超声 + 蒸汽干燥;亚微米颗粒→38 kHz + 或兆声 + 循环过滤;复杂型腔→超声 + 摇摆 / 旋转 + 蒸汽清洗。
溶剂体系:HFE/PFC→密封冷凝、chiller、水分分离、蒸汽干燥;禁用氯 / 氟 / 溴系高危溶剂。
批量与场地:中批量→1 槽自动;高洁净度→2 槽分级;纯水漂洗后脱水→水切干燥机;空间受限→紧凑型布局(如 W1450×D1400)。
干燥与无水印:控温蒸汽 + 冷凝回流 + 真空干燥,避免水渍与二次污染。
低耗运维与常见问题对策
日常运维:每日查温度、液位、过滤压差、真空度;每周清槽体、换滤芯、清冷凝回收器;每月查密封件、换能器粘结、chiller 工况。
常见问题与对策:
溶剂消耗快→chiller 未开 / 温度高、密封不良;启用 chiller、降温、检修密封与冷凝。
残留 / 水渍→蒸汽温度不均、冷凝不足;优化蒸汽温度、加强冷凝、延长蒸汽清洗。
溶剂乳化 / 劣化→水分混入、污染物累积;启用水分分离、蒸馏再生、定期更换溶剂。
超声无输出→发生器故障、换能器脱落、电源异常;检修发生器、重新粘结换能器、查电源与接地。