KAIJO楷捷双罐氟化清洁剂清洗系统

核心原理与关键优势

双槽分工：清洗槽（超声、加热、循环过滤）实现高效脱污；蒸汽槽（控温蒸汽、冷凝回流）实现蒸汽清洗与无水印干燥，减少残留与水渍。

低耗与环保：内置 / 外置 chiller 抑制溶剂挥发与飞散，降低消耗；可选蒸留再生与水分分离器，延长溶剂寿命、减少危废。

低损伤与高一致性：扫频超声、可调功率 / 频率，适配热敏 / 易碎件；槽体与工装采用低发尘材质，控制金属颗粒与划痕。

安全与合规：氟系溶剂专用密封与冷凝回收，防爆可选，符合 VOC 与危化品管理要求。

标准机型与集成方案

机型 / 系列 适用场景 核心配置 典型工艺

2 槽氟系标准机（Phenix Hyper/+） 中批量精密件、光学件、半导体载具 26/38 kHz 扫频超声、温控、循环过滤、chiller、蒸汽干燥 超声清洗→蒸汽清洗 / 干燥；可选多级漂洗

2 槽低耗型（带蒸留再生） 高溶剂成本、减排需求 蒸留再生、水分分离、自动补液、PLC 控制 超声清洗→蒸留再生循环→蒸汽干燥

定制 2 槽在线 / 半自动 产线集成、节拍稳定 自动升降 / 摇摆、在线过滤、防爆、远程监控 自动上料→超声清洗→蒸汽干燥→下料

选型与工艺要点

工件与污渍：轻油 / 颗粒→26/38 kHz 超声 + 蒸汽干燥；亚微米颗粒→38 kHz + 或兆声 + 循环过滤；复杂型腔→超声 + 摇摆 / 旋转 + 蒸汽清洗。

溶剂体系：氟系（如 HFE、PFC 类）→密封冷凝、chiller、水分分离；易燃型→防爆 + 氮气保护；需减排→蒸留再生 + VOC 回收。

批量与场地：中批量→落地 2 槽自动；空间受限→紧凑布局（如 W1450×D1400）；实验室 / 小批量→台式 2 槽半自动。

洁净度与干燥：高洁净度→≥1 μm 过滤 + 溢流 + 蒸汽清洗；无水印→控温蒸汽 + 冷凝回流 + 热风辅助。

典型工艺示例（2 槽自动）

上料→超声清洗（氟系溶剂，26/38 kHz，控温，循环过滤）→蒸汽清洗 / 干燥（控温蒸汽，冷凝回流）→下料；全程温控与液位闭环，适合中批量连续生产。

维护与常见问题处理

日常维护：每日检查超声功率、温度、液位、过滤压差；每周清洁槽体、更换滤芯、清理冷凝回收器；每月检查换能器粘结、密封件与蒸汽发生器。

常见问题与对策：

溶剂消耗快→chiller 未启用 / 温度过高、密封不良；启用 chiller、降温、检修密封与冷凝回收。

残留 / 水渍→蒸汽温度不均、冷凝回流不足；优化蒸汽温度、加强冷凝、增加蒸汽清洗时间。

超声无输出→发生器故障、换能器脱落、电源异常；检修发生器、重新粘结换能器、检查电源与接地。

溶剂乳化 / 劣化→水分混入、污染物累积；启用水分分离、蒸留再生、定期更换溶剂。