KAIJO楷捷QUAVA超声波精密清洗-纳米级颗粒去除

KAIJO楷捷QUAVA是一款面向半导体、液晶及硬盘制造领域的高性能兆声波清洗设备，专注于去除纳米级超细颗粒污染物。该系列产品涵盖QUAVA标准机型与QUAVA MegaTube管式喷嘴机型，凭借高频超声波技术，为精密电子制造提供可靠的清洗解决方案。其中，QUAVA MegaTube将搭载超声波的清洗液从管式喷嘴喷射而出，可对工件侧面、背面进行照射清洗，造型自由度高的管式喷嘴能够实现均匀清洗，最适合单片式清洗工艺。

高频兆声波技术实现纳米级颗粒去除

KAIJO楷捷QUAVA采用750kHz、950kHz高频超声清洗技术，以加速度速率进行清洁，空化现象几乎不存在。这一特性使其对解决空蚀引起的侵蚀（工件损伤）和驻波引起的清洗异常非常有效。传统低频超声清洗中，空化气泡崩溃产生的冲击力虽能去除较大颗粒，但容易对精密工件表面造成损伤。而QUAVA系列的高频兆声波清洗方式，在保证超精密清洁力的同时，有效避免了工件损伤问题，能够去除半导体晶圆、液晶显示器、硬盘及类似材料中的超细颗粒。QUAVA MegaTube对应430kHz、950kHz频率，进一步拓展了应用灵活性。

多领域精密清洗的适用场景与参数

KAIJO楷捷QUAVA系列广泛应用于太阳能电池、FPD基板、HD基板的精密清洗，以及半导体晶圆和液晶显示器制造过程中的颗粒去除。其核心优势在于提供强劲的超精密清洁力，满足半导体、液晶行业对纳米级超细颗粒去除的严苛要求。QUAVA标准机型支持750kHz、950kHz频率输出；QUAVA MegaTube则支持430kHz、950kHz频率，通过管式喷嘴结构实现从侧面、背面对工件的照射清洗，适用于造型复杂或需要均匀清洗的单片式工艺场景。两款机型均继承QUAVA系列高性能特性，可根据具体清洗对象和产线布局灵活选择。

在实际应用中，建议根据工件类型、污染物尺寸及产线节拍要求选择合适的机型与频率配置。对于需要侧面或背面清洗的单片式工艺，QUAVA MegaTube的管式喷嘴结构具有明显优势；对于常规半导体晶圆和液晶基板的纳米级颗粒去除，QUAVA标准机型即可满足需求。合理匹配频率与清洗液参数，可充分发挥设备的超精密清洗能力，提升产品良率与生产稳定性。